半死不活的阿斯慢敏锐的看到了其中蕴藏的巨大机会,历史注定阿斯慢会和宁本坚合作。
阿斯慢如果选择浸润式技术,不仅可以获得台急电的巨大订单,也能够和台急电建立起危难中的“革命友谊”。
这对于宁本坚和阿斯慢来说,结果都不会比现在更糟了。
命运倒向了浸润式光刻技术。二零零四年,阿斯慢和台急电共同研发出第一台浸润式微影机。
优秀的性能和稳定的技术,让阿斯慢的产品全面碾压尼糠。尼糠只用了5年时间,就失去了百分之五十以上的份额,沦为一个不入流的厂商。
半导体的兴衰,没有道理可讲,而且毁灭是巨大的。时间到二零零九年,因为岛国、IBM等无视浸润式技术,让岛国的半导体厂商,以及IBM也都迅速的衰落。
尼糖因为一步错,把整个岛国半导体拖慢了3个世代。
这种情况也发生在格罗方德身上。当年格罗方德选择了FD-SOI工艺,被彻底采用FinFET工艺的台急电甩出十条大街,最终不得不放弃7nm工艺的研发。
阿斯慢在这场赌局中大获全胜,这是阿斯慢王朝的开端,但离真正封神的时候,还有一段距离。
早在一九九七年,当时干式光刻还大行其道的时候,Intel为了推动摩尔定律,在未来几十年继续有效,联合花旗国能源部,拉了AMD、摩托罗拉等搞了一个前沿组织EUVLLC,成员甚至包括当时花旗国劳伦斯利弗莫尔、劳伦斯伯克利和桑迪亚三大国家级实验室。
这是当时的业内最顶级组织。阿斯慢和尼糠自然看在眼里,心心念念。
然而诡异的是,最终阿斯慢以一粒“尘埃”的角色,加入了该组织,而尼糖却因为“过于强大”,被花旗国忌惮而被剔除在外。
岛国第一次被“牺牲”,也为之后被彻底抛弃埋下了隐患。ASML第一次靠自己强大的“游说能力”受益。
多少年后回头看,花旗国人第一次被自己的“强大的智慧”扯到了蛋。
二零零三年,阿斯慢组织的几百位科学家,在发表了大量的论文,论证了EUV可行性之后,组织光荣解散。
此后,尘埃阿斯慢就像一个努力的学生,在打赢了浸润式战役之后,就投入到了EUV的研发中。
剩下的都是以后的事情了,我们就暂时不提了。
光刻是集成电路最重要的加工工艺,他的作用,如同金工车间中车床的作用。
在整个芯片制造工艺中,几乎每个工艺的实施,都离不开光刻的技术。
光刻也是制造芯片的最关键技术,他占芯片制造成本的35%以上。
在如今的科技与社会发展中,光刻技术的增长,直接关系到大型计算机的运作等高科技领域。
光刻机一直是中国半导体产业发展的软
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